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第1357章 准备好了?
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更新于 2026-05-14 13:29
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    五月八號。
    荷兰,费尔德霍芬。
    asml总部。
    一栋灰色的方形建筑,门口竖了两块巨幅gg牌,蓝底白字。
    “euv:the future of semiconductor manufacturing”
    发布会定在上午十点。九点半人就到齐了。
    三百多人,坐满了报告厅。
    路透、彭博、金融时报、华尔街日报、日经新闻、法兰克福匯报——全球科技口的记者来了一半。
    摄像机架了两排,闪光灯试了又试。
    范德贝尔穿了件深蓝西装,白衬衫,没打领带。
    他站在后台,助手递过来一杯水,他喝了一口,放下。
    “准备好了?”
    助手点头。
    十点整,灯暗了。
    范德贝尔走上台。
    身后是一块十二米宽的led屏,屏上一行字。
    “euv alpha demo unit — first light”
    掌声。
    范德贝尔没废话。
    “今天,我给各位看一样东西。”
    屏幕切换,实时画面——隔壁的洁净室。
    一台机器占了半间屋子,银白色外壳,管线密密麻麻。
    范德贝尔拿起遥控器,按了一下。
    洁净室里,工程师启动程序。
    嗡的一声。
    机器亮了。
    屏幕上跳出一组数字。
    光源功率:62瓦。
    波长:13.5纳米。
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    曝光均匀性:99.2%。
    报告厅安静了三秒。
    然后掌声炸了。
    范德贝尔站在台上,等掌声停了。
    “62瓦。各位,我们原定的目標是50瓦,今天的实测数据超出了百分之二十四。”
    台下记者开始举手。
    范德贝尔摆了摆手。
    “问题等会儿再说,先看完。”
    屏幕上切出第二组数据。
    解析度测试:45纳米线宽,清晰,没有畸变。
    第三组,套刻精度:3.2纳米。
    范德贝尔指著屏幕。
    “这意味著,euv光刻技术从实验室走向了工程验证阶段。我们距离量產只差最后一步。”
    掌声又起来了。
    发布会结束,记者围上去。
    范德贝尔回答了十二个问题。最后一个,金融时报的记者问。
    “首批量產设备的客户名单,能透露吗?”
    范德贝尔笑了一下。
    “首批设备將优先供应我们的长期合作伙伴——台积电,三星,英特尔。至於亚洲其他地区的客户,目前没有计划。”
    这句话当天晚上就上了所有科技媒体的头条。
    彭博的標题。
    “asml宣布euv光刻机突破关键里程碑:亚洲客户被排除在首批名单外”
    京城,后海。
    下午三点。
    张红旗坐在地下室。
    面前一台电脑,屏幕上放的是asml发布会的网络直播回放。
    他从头看到尾,看了两遍。
    第一遍看范德贝尔说了什么。
    第二遍看屏幕上那些数字。
    62瓦,13.5纳米,99.2%,45纳米,3.2纳米。
    他把这些数字一个一个抄在纸上。
    陈默站在旁边,没说话。
    张红旗把纸折好,装进信封。
    “发鹏城,钱老亲启。今天就寄,用最快的。”
    陈默接过去,走了。
    五月十號。
    鹏城,地下室。
    钱院士把asml发布会的参数输进了模擬集群。
    十台伺服器跑了六个小时。
    结果出来了。
    钱院士把两张曲线图叠在一起。
    一张是asml公布的实测数据。
    一张是集群用那五项专利的拉格朗日方程组模擬出来的理论曲线。
    两条线,完全重合。
    误差小於千分之三。
    钱院士把眼镜摘下来,擦了擦,戴回去。
    又看了一遍。
    他拿起电话。
    “张总,確认了。”
    张红旗在煤市街。
    “说。”
    “他们发布会上展示的光路数据,我用我们的专利算法跑了一遍,结果完全一致。62瓦的光源输出,99.2%的均匀性,45纳米的解析度,全都能復现。”
    钱院士停了一下。
    “用的就是我们的数学,一模一样。”
    张红旗没说话。
    钱院士又补了一句。
    “证据链闭合了。他们的设备从光源到成像,每一步计算都踩在我们的专利上。”
    张红旗说了两个字。
    “知道了。”
    掛了。
    五月十二號。
    京城,国际饭店。
    《英雄》国內首映礼。
    张红旗让刘浩操办的。
    刘浩干这事在行——请了两百多號人,媒体记者占了一半,明星大腕来了三十多个。红毯,闪光灯,主持人嗓门扯得老大。
    张谋子站在台上,说了几句感谢的话。
    票房预测铺天盖地。
    所有娱乐版的头条都被《英雄》占了。
    没有一家媒体关注半导体。
    五月十五號。
    范德贝尔接受荷兰国家电视台专访。
    记者问:“euv设备什么时候能量產?”
    范德贝尔说:“2005年底之前,第一台量產设备將交付客户。”
    记者又问:“中国市场呢?”
    范德贝尔说:“中国在半导体製造领域的技术储备与国际水平存在代际差距,短期內他们不需要这种设备。”
    这段话被翻译成中文,在国內论坛上传了一圈。
    骂声一片。
    张红旗没看。
    五月十八號。
    洛杉磯。
    麦佳佳走进加州中区联邦法院。
    手里一份补充起诉书,六十一页。
    被告名单第一行。
    asml holding n.v.
    起诉理由:asml的euv概念机中使用的光学信號处理模块,其底层算法与原告持有的五项全球底层专利构成实质性侵权。
    附件,一百八十七页。
    其中包括:麻省理工实验室出具的第二份技术鑑定报告,asml发布会公开数据与专利算法的比对分析,以及钱院士团队提供的理论模型復现结果。
    索赔金额:一亿两千万美元。
    麦佳佳把文件递进去,签了字。
    出来,上车,打电话。
    “递进去了。asml列为第一被告。”
    张红旗在煤市街院子里,大槐树刚冒新叶。
    “莫里斯那边准备好了?”
    “准备好了。对方一有回应,立刻反击。”
    张红旗说:“告诉莫里斯,这次不是打官司,是谈判的筹码。让他做好长期作战的准备。”
    麦佳佳说:“明白。”
    掛了。
    五月十八號下午。
    费尔德霍芬。
    范德贝尔的办公桌上多了一份法院文件。
    助手放上去的。
    范德贝尔拿起来,翻到第一页。
    被告名单:asml holding n.v.。
    他愣了两秒。
    翻到起诉理由。
    拉格朗日方程组,底层算法,euv光路计算。
    范德贝尔把文件放下。
    摘了眼镜。
    揉了揉眼睛。
    拿起电话,打给法务总监。
    “叫律师团,明天早上八点,全部到。”

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